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第2章（第1页）

第2章

次日一早，

关押李红旗的门被打开，

张勋拉着李红旗去往了监狱北边区域的一间研究室。

“研究室内有监控，还有警卫在外巡逻。”

“今天这间研究室就属于你了，但是研究室的东西不能外带回监狱，我提醒你不要动歪脑筋，小心无期。”

李红旗点头，随即开始梳理。

系统给了自己技术和图纸，可并不是自己传到自己脑子里的，所以第一个难题就是需要李红旗自己去学习理解。

然后用自己的方式写出来。

打开系统给的文件，

眼花缭乱的公式、数字模型和图纸摆在自己的眼前。

光刻机的原理不难理解，就是通过特制的精密光学镜片，将激光器产生的高能激光投射在晶圆表面，精度需要达到纳米级别。

如今的光刻机难题在两个方面：

一、激光光源精度，随着芯片对高分辨率的要求越来越高，要求光源具有高精度、功率大的特点，而且需要光线路径真空化，而难点就在高精度和功率大上。

二、光学镜头，由于光刻机光源极短，容易溢散被玻璃吸收，所以光刻机必须使用全反光的特殊镜头，称为布拉格反射器。

而因为纳米级别的激光，镜头的精度也被要求到一个可怕的程度，即使是五纳米的光刻机精头，其镜头的规格也到了反射率99.998％，直径30厘米，凹凸面幅度不超过0.3纳米！

可以说，在光刻机技术上，每一个零件，即使是每0.001％，每0.1纳米的提升都是在挑战人类智慧和技术的极限！

“可现在，都不是问题了！”

李红旗盯着那个模型，

一个机械臂模样的装置，其臂后是方刑的操作台，机械臂前段有着一根细细的尖端，目不能及。

二维离子态晶管光刻机装置，

和传统光刻机不同，二维离子态晶管光刻机用三个离子态叠加成的半纳米晶体管取代了原本的激光光源，来铭刻电路。

其精度和功率都上升了不只一个层次。

由于晶体管不存在溢散和光源影响，对光学镜头的要求也大大降低。

“没错了，二维离子态晶体管是在低温下进行的叠加铭刻，对芯片电路的稳定更加有利。”

“这样的话，就需要新的智能精度系统，和更多的辅助镜头......”

李红旗沉浸了进去，

时间一分一秒的过去，

按照一定的顺序和节点去梳理这项技术。

李红旗一边在黑科技系统内学习，一边在纸张和电脑的软件上做了大量的时间和运算，甚至每次都忘了吃饭。

张勋送饭时看见写满公式和符号的纸张，看不懂，但满眼震撼。

这个状态整整持续了三天，

李红旗深深的吐了一口气，

打开了电脑的文档，

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